對于專利申請新手來說，可能會陷入專利申請的誤區中，下面好辦易給大家來介紹專利申請常見的三個誤區，希望大家都能避開誤區，順利取得專利證書。
誤區1：技術方案交待不清。
很多單位的發明人提交的專利技術交底書過于簡單，有的只有幾句話，有的只有幾個附圖，技術方案細節完全沒有交待清楚，這給專利代理人撰寫正式的專利申請文件帶來很大困難。低質量的專利交底書會產生低質量的專利申請，技術交底書的質量是整個專利質量的源頭和關鍵。詳細的技術交底書，會有利于專利代理人理解，可提高專利代理人撰寫速度、水平，以及擴大專利的保護范圍。
在要求發明人提供更多的技術方案時，他們會以技術保密為由回避，表明這些發明人沒有把握好保密與公開的度。他們只是一味要求保密，害怕多透露技術信息，而恰恰忽視了公開不充分的問題。大量案例表明，如果一件專利申請被審查員以技術方案公開不充分為由而發出審查意見通知書，則這件專利申請有很大的概率可能被駁回。這一點希望引起發明人的高度重視。
誤區2：專利申請前不檢索。
有些發明人提交的專利申請文件沒有做查新檢索，對技術方案的新穎性如何不確定，根本不知道其技術方案有沒有公開過或公開使用過。有調查機構對我國沿海某發達地區的科技人員進行過調查統計，發現有近一半的科研人員不知道或從未用過國外的科技報告、標準、專利等情報價值很高的文獻。這也是我國科研項目的重復率大大高于發達國家的原因。
就公開使用而言，只有國內的使用才影響技術方案的新穎性。也就是說，國外已經普遍使用過的東西，如果國內沒有出現，各種文獻也沒有相關記載，那你就可以申請專利。這一點在將來的專利法修改中可能有所變動。
可見，檢索工作在專利申請中是非常重要的一環，如果他人已經就某一技術方案申請過專利或者在相關文獻中公開，您沒有做檢索也去就這一技術方案申請專利，那只能是白白浪費時間、金錢和精力。
誤區3：先發表論文或成果鑒定再申請專利。
有些發明人取得研究成果后急于發表文章或成果鑒定，而沒有想到先申請專利保護。因為發表文章或成果鑒定不可避免地要公開技術內容，使專利申請失去新穎性而得不到保護。現實生活中也有很多具有市場前景的專利申請因先發表文章或成果鑒定而不得不放棄申請專利。
以上就是好辦易為大家介紹的“專利申請常見的三個誤區”，希望專利申請人們都能避開上述誤區，如您還有其他疑問，不妨來好辦易。好辦易擁有全國各地的專利代理服務商家，保證快速為您解決難題。